| 번호 | 제목 |
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Angular dependence of Si3N4 etch rates and SiO2 to Si3N4 etch selectivity in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma 조성운, 이진관, 문상흡, 김창구 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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Multi-directional plasma etching using a Faraday Cage 이승행, 민재호, 이진관, 장일용, 문상흡 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
| 2 |
Effects of the ion mass and the ion incident angle on etch rates in atomic scale etching 박창한, 이형무, 윤형진, 김태호, 신치범, 김창구 한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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Angular distributions etch products from the bottom substrate in fluorocarbon plasmas 이진관, 이겨레, 민재호, 문상흡 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
