번호 | 제목 |
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화학기상증착반응기에서 금속 갈륨(Ga)과 암모니아(NH3)의 직접반응에 의한 thick GaN 성장과 특성연구|Growth and Characterization of thick GaN film by the direct reaction of metal Ga and NH3 in CVD reactor 양승현, 안상현, 남기석|Seung Hyun Yang, Sang Hyun Ahn, Kee Suk Nahm 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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SCR 프로세스에서 하니콤 촉매의 탈질효율 해석|Analysis of the DeNOx Efficiency for a Honeycomb Type Catalyst in the SCR Process 고준호, 민병수, 양희성, 이채석, 김정래|Joon-Ho Ko, Byeong-Su Min, Hee-Sung Yang, Chae-Seok Lee, Jung-Rae Kim 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |