화학공학소재연구정보센터
번호 제목
28 Low voltage operating ZnO thin-film transistors with Ni doped BaSrTiO3 high-K gate insulator for transparent and mobile electronics
김정웅, 김영웅, 최덕균, 김일두, 홍재민
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
27 The Growth of the lanthanum oxide thin films for application as a gate oxide by plasma enhanced atomic layer deposition
Jun-Ho Moon, Myoung-Gyun Ko, Eun-Joo Lee, Sang-Kyun Park, Min-Soo Hong, Yoo-Jin Jeon, Jong-Wan Park
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
26 PLD 법으로 증착된 Doped SrTiO3 박막의 저항변화 연구
정철호, 이재찬, 최택집, Phan Bach Thang, 박지현, 정숙진
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
25 Well-aligned CNTs grown on AAO template applied to a new triode-type field emission device
Nguyen Van Quy, Nguyen Duc Hoa, Yousuk Cho, Dojin Kim
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
24 Anisotropic character of charge carrier mobility through the alignment techniques in thin-film transistors
강석주, 노용영, 김지은, 백강준, 김동유
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회
23 Electrical properties of MIM capacitor with La2O3 dielectrics deposited by ALD
조상진, 하정숙, 김수영, 박원태, 강동균, 김병호
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회
22 HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure
최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
21 Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions
김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회
20 Development of High Performance Organic Thin Film Transistor
이상윤
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
19 Interfacial properties of ultra thin HfxSi1-xO2 films grown by ALCVD using Hf(N(C2H5)2)4 and Si(OC4H9)4 for CMOS application
김재현, 용기중
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회