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The effects of RF power on remote plasma atomic layer deposited Al2O3 passivation layer to improve the electrical stability of IGZO TFTs
Youngbin Ko, Seokhwan Bang, Seungjun Lee, Joohyun Park, Hagyoung Choi, Jaehun Ryu, Kiyeol Ham, Seokyoon Shin, Jihoon Kim, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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Adhesion properties of ruthenium thin films deposited by remote plasma atomic layer deposition
박태용, 최동진, 최학영, 전형탁
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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Remote Plasma ALD법을 이용한 코발트 금속유도 결정화법에 관한 연구
홍진원, 김명식, 이근우, 배규식
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Study on characteristics of cobalt film deposited by Remote Plasma ALD method
김근준, 이근우, 한세진, 정우호, 배규열, 전형탁
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method
김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Preparation of Cu thin films By Remote Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using Copper(Ⅱ) dimethylamino-2-propoxide
윤동준, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
