| 번호 | 제목 |
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Plasma surface kinetic studies for high-aspect ratio contact hole etch profile simulation 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 권득철, 임연호, 장원석 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
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3D feature profile simulation based on realistic surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in C4F6/Ar/O2 plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 천푸름, 이세아, 김진태, 김상곤, 권득철, 송미영, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회 |
