| 번호 | 제목 |
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Angular dependence of Si3N4 etch rates and SiO2 to Si3N4 etch selectivity in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma 조성운, 이진관, 문상흡, 김창구 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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Characteristics of fluorocarbon films deposited in perfluorocarbon and unsaturated fluorocarbon plasmas 조성운, 지정민, 김창구 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
| 2 |
Characteristics of Fluorocarbon Thin Films Deposited in C4F8 and C4F6 Plasmas 권혁규, 지정민, 김창구 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
| 1 |
Effects of Power and Pressure on the Optical and Electrical Properties of Flourocarbon Films 지정민, 권혁규, 김창구 한국화학공학회 2008년 가을 학술대회 |
