| 번호 | 제목 |
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| 1 |
Cu CMP에서 나노 콜로이달 입자의 크기가 연마제거율과 Cu/TaN 선택비에 미치는 영향|Effect of Nano-Colloidal Abrasive size on Removal Rate and Selectivity of Cu/TaN Film in Cu CMP 박진형, 김민석, 백운규, 박재근 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Cu CMP에서 나노 콜로이달 입자의 크기가 연마제거율과 Cu/TaN 선택비에 미치는 영향|Effect of Nano-Colloidal Abrasive size on Removal Rate and Selectivity of Cu/TaN Film in Cu CMP 박진형, 김민석, 백운규, 박재근 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |