화학공학소재연구정보센터
번호 제목
7 Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 and BCl3-based gas Plasmas
강동진, 이건교, 이병택
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
6 Etch characteristics of GeSbTe thin films by inductively coupled plasma reactive ion etching
박익현, 이장우, 정지원
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회
5 마이크로 부품 및 바이오 셀 그리핑을 위한 압전 out-of-plane 방식의 마이크로 그리퍼 설계 및 제조|Design and fabrication of out-of-plane type piezoelectric micro grippers for gripping micro parts and bio-cells
전창성, 박준식, 이상렬, 문찬우
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
4 C2F6 유도결합플라즈마(ICP)를 이용한 산화아연(ZnO) 식각에 관한 연구|Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas.
이건교, 이병택
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
3 CeO2 완충층을 이용한 SrBi2Ta2O9 박막의 식각 정지 특성|Etch Stop Characteristics of SrBi2Ta2O9 Thin Film by Using CeO2 Buffer Layer
권영석, 심선일, 김용태, 최인훈
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
2 SiO2 hard mask를 이용한 자성 박막의 건식 식각
송영수, 신 별, 정지원
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
1 C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3
이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택
한국재료학회 2003년 가을 학술대회