화학공학소재연구정보센터
번호 제목
26 Influence of non-corrosive etch gases containing C, H, and O elements on magnetic properties of CoPt superlattice
이재용, 최재상, 조두현, 정지원
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
25 습식 에칭한 MoNi/Cu기반 다층 전극 구조를 적용한 IGZO 박막 트랜지스터
윤대호, 김다은, 조형균
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
24 Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2
이호석, 양경채, 박성우, 염근영
한국재료학회 2016년 봄 학술대회
23 Effect of Bias Frequency on the Etching of Magnetic Tunnel junction Materials
Geun Young Yeom, Kyong Nam Kim, Kyung Chae Yang, Sung Woo Park
한국재료학회 2015년 가을 학술대회
22 Charge-up simulation coupled with unified semi-global surface model  for UHARC plasma etching in semiconductor fabrication  
임연호, 최광성, 유동훈, 조덕균, 육영근, 장원석, 유혜성
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회
21 Inductive coupled plasma reactive ion etching characteristics of Ta thin films for hard mask applications
최지현, 아드리안, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
20 High density plasma reactive ion etching of Co2MnSi thin films using a CH3OH/Ar gas mixture for magnetic random access memory applications
아드리안, 최지현, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
19 Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas
황수민, 아드리안, 최지현, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
18 Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma
이철희, 염근영
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
17 GPU computing platform for ballistic transport  in 3D feature profile simulation of plasma etching process
조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2014년 봄 학술대회