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Influence of non-corrosive etch gases containing C, H, and O elements on magnetic properties of CoPt superlattice 이재용, 최재상, 조두현, 정지원 한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
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습식 에칭한 MoNi/Cu기반 다층 전극 구조를 적용한 IGZO 박막 트랜지스터 윤대호, 김다은, 조형균 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Effect of the dual synchronous pulsed plasma on the etch characteristics of SiO2 이호석, 양경채, 박성우, 염근영 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Effect of Bias Frequency on the Etching of Magnetic Tunnel junction Materials Geun Young Yeom, Kyong Nam Kim, Kyung Chae Yang, Sung Woo Park 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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Charge-up simulation coupled with unified semi-global surface model for UHARC plasma etching in semiconductor fabrication 임연호, 최광성, 유동훈, 조덕균, 육영근, 장원석, 유혜성 한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
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Inductive coupled plasma reactive ion etching characteristics of Ta thin films for hard mask applications 최지현, 아드리안, 황수민, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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High density plasma reactive ion etching of Co2MnSi thin films using a CH3OH/Ar gas mixture for magnetic random access memory applications 아드리안, 최지현, 황수민, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas 황수민, 아드리안, 최지현, 정지원 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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Etching Characteristics by using Pulse-Time-Modulation in 60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive Coupled Plasma 이철희, 염근영 한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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GPU computing platform for ballistic transport in 3D feature profile simulation of plasma etching process 조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |