| 번호 | 제목 |
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기계적 펌프 기반의 축전 결합형 BCl3/N2 플라즈마를 이용한 GaAs의 건식 식각 김재권, 주영우, 박연현, 조관식, 이제원 한국재료학회 2008년 가을 학술대회 |
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ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교 권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
| 4 |
기계적 펌프 기반의 축전 결합형 BCl3/N2와 Cl2/N2 플라즈마를 이용한 GaAs의 건식식각 비교 김재권, 노호섭, 주영우, 박연현, 박주홍, 조관식, 송한정, 이제원 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
| 3 |
노즐 형태의 HCRT MOCVD 반응기에서 유체 흐름이 막 표면 조도 미치는 영향 김경수, 정일현 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
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Numerical Analysis of Capacitively Coupled Plasma Driven by Dual RF Power Sources 김헌창, 황일선 한국공업화학회 2004년 가을 학술대회 |
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He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property 김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
