| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 9 |
오존수 발생과 이용 김석규 한국공업화학회 2010년 봄 학술대회 |
| 8 |
직접전해방식 오존수의 제조 및 응용효과 김한주, 홍경미, 박수길 한국공업화학회 2009년 가을 학술대회 |
| 7 |
(Pt-TaOx)/Ti 전극을 이용한 초순수에서의 전기화학적 오존수 발생 김한주, 홍경미, 박수길 한국공업화학회 2009년 봄 학술대회 |
| 6 |
Cleaning of Silicon Wafer Surface by Ozonated Water Chemistries 이종혁, 백성훈, 임상우 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
| 5 |
Modification of Ozonated Water Cleaning System for Photoresist Removal 이종혁, 임상우 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
| 4 |
오존수를 이용한 실리콘 웨이퍼 연마 후 지용성 왁스 제거 효율 및 습식 세정 공정의 최적화에 관한 연구 이재환, 이승호, 김태곤, 박진구 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
| 3 |
Cleanliness Evaluation of Electronic Parts Using Ozonized DI Water Rinse System 하순효, 한종필, 이병철, 최진열, 강두환 한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |
| 2 |
과산화수소를 대체하여 고농도의 오존수를 사용한 SC1의 오염물 제거 효율 평가 이승호, 박진구, 이상호, 김태곤, 권태영 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
| 1 |
RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
