| 번호 | 제목 |
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| 17 |
고순도 NH3와 HF의 반응에 의한 NH4F 합성 김영덕, 이철우 한국공업화학회 2012년 가을 학술대회 |
| 16 |
nMOS capping layer La2O3의 습식 에칭 kinetics 및 mechanism 연구 오지숙, 배진성, 서동완, 임상우 한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
| 15 |
Si wafer의 wet etching 시 etching속도에 미치는 온도 영향 이현용, 서승국, 노재승, 고성우 한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
| 14 |
nMOS high-k gate stack 형성을 위한 capping layer의 선택적 에칭 오지숙, 배진성, 서동완, 임상우 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 13 |
Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식 에칭기술 개발 배진성, 오지숙, 서동완, 임상우 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
| 12 |
Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식에칭기술 연구 정준의, 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 11 |
pMOS gate stack capping layer의 고선택비 습식에칭 기술연구 오지숙, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 10 |
초임계 이산화탄소와 HF를 이용한 고 종횡비의 MEMS구조물 건식 에칭기술 정재목, 임권택 한국공업화학회 2010년 봄 학술대회 |
| 9 |
초임계 이산화탄소를 이용한 TEOS 박막 에칭 시 발생되는 잔류물 제거 배재현, 임권택 한국공업화학회 2009년 봄 학술대회 |
| 8 |
Thermal hydrolysis를 이용한 Ti-Zn나노복합산화물의 제조와 광학성질 평가 김수정, 강미숙 한국공업화학회 2008년 봄 학술대회 |
