화학공학소재연구정보센터(CHERIC) | 연구정보 | 문헌DB

학술대회 목록보기

번호	제목
24	High Density Plasma Etching of Hard Mask Materials of SiO₂, α-C:H, and ZnO 라현욱, 옥치원, 이 석, 김상훈, 한윤봉 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
23	Dry Etching of SiO₂ with C₂F₆ Plasma in an ICP Process: Numerical Study with a CFD Code 서승택, 이용희, 이광순 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
22	ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구\|A study on fabrication and evaluation of characteristics of 2-dimensional photonic crystal structure using ECR plasma etching 문강훈, 신수범, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회
21	유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 Er 첨가된 광도파막 식각 특성 연구\|A study on the etching characteristics of Er doped optical waveguide films using Inductively Coupled Plasma Etching 송명곤, Jiehe Sui, 신동욱 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
20	High Density Plasma Etching of Magnetic Multi-layers of NiFe/Co and NiFe/Al-O/Co 라현욱, 한윤봉 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
19	Angular dependences of etch rates of Si and fluorocarbon polymer in SF₆, C₄F₈, and O₂ plasmas for advanced Bosch process 민재호, 이겨레, 이진관, 문상흡 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
18	Enhanced Ion Exchange Capacity of Polypropylene Membrane via Plasma Polymerization Coating Fevzi Basarir, 윤태호 한국고분자학회 2003년 가을 학술대회
17	Fabrication of Nano-Structures Using a Monolayer Film of Diblock Copolymer Micelles as an Etching Mask 윤상현;유승민;최정민;박대호;손병혁 한국고분자학회 2003년 봄 학술대회
16	CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성\|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma 황성욱,이겨레,민재호,문상흡\|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
15	불화탄소 플라즈마 식각시 바닥면으로부터 방출된 입자들이 벽면특성에 미치는 영향\|Effects of bottom-emitted particles on the sidewall property in fluorocarbon plasma etching 민재호,황성욱,이겨레,문상흡\|Jae-Ho Min,Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Sang Heup Moon 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회