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유기금속 화학증착법으로 제조된 알루미늄 박막의 증착특성|Properties of Chemically Vapor Deposited Aluminum Prepared From Dimethylethylamine alane
김도형, 임경택, 김병엽, 박진원|Do-Heyoung Kim, Gyeong Taek Lim, Byung-Yup Kim, Jin. W. Park
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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TiN 유기금속 화학증착 공정을 위한 tetrakis-dimethyl-amino-titanium의 열분해특성에 관한 연구|Study on thermal decomposition of tetrakis-dimethyl-amido-titanium for TiN metal-organic chemical vapor deposition
윤주영, 박만영, 이시우|Ju-Young Yun, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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SrTiO3 유기금속화학증착용 Sr전구체에 대한 연구|Study on Strontium Precursor for MOCVD of SrTiO3
이정현, 박만영, 이시우|Jung-Hyun Lee, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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디에틸실란/산소로부터 이산화규소 저압화학증착의 속도론적 연구|A Kinetic Study on LPCVD of SiO2 from Dethylsilane/Oxygen
김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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화학증착에 의한 복합 알루미나 지지체 내에서의 실리카막 제조 과정 연구|Formation of SiO2 membranes in the pores of composite alumina supports using a CVD technique
이희준, 남석우, 하흥용, 홍성안, 엄희문|H.J.Lee, S.W.Nam, H.Y.Ha, S.A.Hong, H.M.Eum
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane을 이용한 초고집적 회로용 구리 박막의 유기금속 화학증착|Chemical Vapor Deposition of Copper from Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane
손종훈, 박만영, 이시우|Jong-Hoon Son, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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액적화학증착법을 이용한 BST 박막의 제조 및 전기적 특성평가|Preparation and Electrical Properties of BST Thin Films Deposited by Liquid Source Misted Chemical Vapor Deposition (LSMCVD)
정현진, 최재형, 이정용, 우성일|H. J. Chung, J. H. Choi, J. Y. Lee, S. I. Woo
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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TMEDAA를 이용한 알루미늄 박막의 유기금속 화학증착에 관한 연구|Study on the Metalorganic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) of Aluminum Thin Film from Tetramethylethylenediamine Alane (TMEDAA)
김대환, 박만영, 이시우|Dae-Hwan Kim, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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유기금속화학증착법에 의한 Boron Nitride의 제조|Preparation of Boron Nitride Thin Films By MOCVD
진용기, 주재백, 이중기, 박달근|Yong-Gi Jin, Jeh-Beck Ju, Joong Kee Lee, Dalkeun Park
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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Tripropylsilane의 기상 화학 증착법에 의한 다공성 알루미나를 담지한 SiC 분리막의 제조와 고온에서의 가스 투과 선택도|Preparation of SiC Membrane on Porous Alumina Support Tube by CVD of Tripropylsilane and Its Elevated-Temp. Gas Permselectivity
MOROOKA|MOROOKA
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
