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Ru(OD)3를 사용한 유기금속화학증착에 의한 Ru/RuO2박막의 O2/O2+Ar비율에 따른 영향|Effect of O2/O2+Ar ratio on Ru/RuO2 thin films using Ru(OD)3 by MOCVD
김주영, 이정현, 이시우|Joo-Young Kim, Jung-Hyun Lee, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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Tetrakis(ethylmethylamino)titanium의 열분해에 관한 연구|Thermal decomposition of Tetrakis(ethylmethylamino)titanium
김성재, 김도형|Seong-Jae Kim, Do-Heyoung Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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여러 가지 탄소함유가스로 제조된 나노탄소섬유의 물성|Preparation and Properties of Carbon Nanofiber with Various Carbon Containing Gases
우원준, 안유진, 민경호, 김지현, 김명수|W. J. Woo, Y. J. Ahn, K. H. Min, J. H. Kim, M. S. Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)를 이용한 다이아몬드 박막 증착|Diamond Thin Film Deposition by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)
원종각, 김종성, 홍근조, 권상직|Jongkak Won, Jongsung Kim, Kunjo Hong, Sangjik Kwon
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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뒤집힌 단일웨이퍼 반응기에서 클로로실란으로부터 실리콘 화학증착|Si CVD from Chlorosilanes in an Inverted Single-Wafer Reactor
김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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화학증착법에 의한 YSZ 완충층과 YBCO 초전도 박막의 제조 및 특성 연구|Preparation and chracterization of YSZ buffer layers and YBCO superconducting thin films by chemical vapor deposition
김길성, 황상철, 김연수, 조익준, 신형식|Gil-Sung Kim, Sang-Chul Hwang, Yoen-Su Kim, Ik-Joon Cho, Hyung-Shik Shin
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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액적화학증착법을 이용한 초고집적 DRAM capacitor용 (Pb, Sr)TiO3(PST) 박막|(Pb, Sr)TiO3(PST) thin films for ULSI DRAM capacitor prepared by liquid source misted chemical deposi
정현진, 정숙진, 우성일|Hyun Jin Chung, Suk Jin Chung, Seong Ihl Woo
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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초고 집적회로에서 층간 절연막으로 사용하기 위한 저 유전체 박막물질 증착|Deposition of Low Dielectric Constant Material for Intermetal Dielectric Applications in ULSI Circuits
김동선|Dong S. Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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CVD법으로 제조된 알루미늄, 구리 및 확산방지막의 증착특성|Aluminum and Copper with the respective barrier CVD
김도형|Do-Heyoung Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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유기금속 화학증착을 위한 Cu(I) 전구체의 평가|Evaluation of Cu(I) Precursors for Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
이시우, 강상우, 한상호|Shi-Woo Rhee, Sang-Woo Kang, Sang-Ho Han
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
