| 번호 | 제목 |
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Watkins Johnson System에서 TEOS/오존에 의한 SiO2 화학증착|SiO2 CVD by TEOS/ozone in the Watkins Johnson System 권순현, 선우웅, 김의정|Soon-Hyun Kwon, Woong Sunwoo, Eui Jung Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
| 4 |
TEOS/O3을 이용한 게이트 산화막의 저온 화학증착|Low-temperature chemical vapor deposition (CVD) for gate oxide from TEOS/O3 김효욱, 이시우|Hyo-Uk Kim, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
| 3 |
증착 구간의 온도 제어에 의한 SiCl4 초미립자의 균일한 증착|Uniform Deposition of Ultrafine SiO2 Particles by Temperature Contol in Deposition Zone 유수종, 김교선|Soo-Jong You, Kyo-Seon Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
| 2 |
Laser Interferometer를 이용한 비결정성 고분자필름의 용해속도측정|Measurement of dissolution rate of polymer flim using laser interferometer 공배수, 김덕준|Bae Soo Kong, Duk-joon Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
| 1 |
CVD 에 의한 복합막 제조 이상열, 남영우, 전병수, 이중기, 박달근 한국화학공학회 1995년 가을 학술대회 |
