148 |
Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
147 |
Large-Area Precise Printing and Direct-Patterning of Sol-Gel Oxide Dielectrics for Solution-Processed Metal-Oxide Transistor Arrays 윤명한 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer 김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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HfO2 Deposition on Graphene through Ar+ Ion Cleaning 지유진, 김기석, 김기현, 염근영 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Chemically durable oxide semiconductor films and their application for oxide thin-film transistor circuit integration 윤대호, 조성운, 조형균 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Electric-field induced si-graphene heterostructure solar cell using top gate 원의연, 유우종 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Characteristics of Si:ZrO2 deposited by ALD using CP-Zr 이건영, 장우출, 김현정, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Characteristics of silicon oxy-carbide deposited by RPALD using OMCTS 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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NH3 Pre-Plasma Treatment to Reduce Interface State Density of GaN MOS Device 정우석, 임동환, 김영진, 한훈희, 손석기, Andrey Sokolov Sergeevich, 이재호, 최창환 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Facile, Low-temperature Solution-Processed Gate Dielectric Materials Using Hybrid Mixture for High Performance OTFTs 김대철, 하영근 한국공업화학회 2016년 가을 학술대회 |