화학공학소재연구정보센터
번호 제목
11 Fabrication of Backside-Illuminated CMOS Image Sensor Using 3-D Interconnect Technologies
표성규
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회
10 Characteristics of deep Si etching using the advanced Bosch process in PFC- and UFC- containing plasmas
지정민, 조성운, 김창구
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
9 Deep Si Etching using SF6/C4F8 and SF6/C4F6 Plasmas
권혁규, 박병훈, 우상호, 김창구
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
8 Optimization of Deep Si Etching using C4F8/SF6 and C4F6/SF6 Plasmas
권혁규, 박병훈, 김창구
한국공업화학회 2008년 봄 학술대회
7 Investigation of Etch Characteristics of Deep Si Etching in PFC- and UFC-containing Plasmas
이형무, 권혁규, 우상호, 김일욱, 김창구
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
6 Compariosn of etch characteristics in deep Si etching using PFC- and UFC-containing plasmas
이형무, 김창구
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
5 Characteristics of Polymer Films deposited in PFC- and UFC-containing Plasmas during the Bosch Process
권혁규, 이형무, 김창구
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
4 Fabrication and testing of thin film bulk acoustic wave resonator using deep Si etch process
안영배, 문정현, 이종호, 이재빈, 정학준, 김형준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
3 Environment-Friendly Plasma Etching of High Aspect Ratio Deep Si
이형무, 박창한, 김창구
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회
2 Deep RIE 공정을 이용한 차세대 이동 통신용 멤브레인 구조의 FBAR 제작
안영배, 문정현, 이재빈, 김형준
한국재료학회 2006년 봄 학술대회