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Chemical Industry and Technology

Chemical Industry and Technology, Vol.7, No.3, September, 1989 Entire volume, number list
ISSN: 0256-1107 (Print) 

In this Issue (27 articles)

260 - 261 [논단] 회원 배가운동의 소고
김상돈
262 - 262 [특집: 반도체재료 및 공정기술]
문상흡
263 - 269 [특집: 반도체재료 및 공정기술] 반도체산업에서 화학공학의 역할
문상흡
270 - 278 [특집: 반도체재료 및 공정기술] 실리콘의 정제 기술
윤풍
279 - 287 [특집: 반도체재료 및 공정기술] 실리콘 단결정 성장 기술
민석기, 김현수
288 - 298 [특집: 반도체재료 및 공정기술] 반도체공정에서의 화학증착법
이시우
299 - 312 [특집: 반도체재료 및 공정기술] 반도체공정에서의 식각기술
우성일
313 - 324 [특집: 반도체재료 및 공정기술] 반도체공정에서 고분자재료의 활용
박찬언
325 - 330 [특집: 반도체재료 및 공정기술] 클린룸의 설계 및 운전
강석호
331 - 333 [수상] 말의 변천과 혼란
장근수
334 - 334 [학과소개] 전남대학교 공과대학 화학공학과
335 - 335 [학과소개] 전북대학교 공과대학 공업화학과
336 - 346 [총설] 염화법에 의한 TiO2의 제조
손홍용, 박균영, 이강인, 양현수, 유효신
347 - 350 [하계특별심포지움] "국내 석유화학공업의 설비투자 동향 및 발전방향"
홍성원
351 - 358 [종합토론] 89하계특별심포지움 종합토론
359 - 363 [회원활동란] 회원동정
364 - 367 [회원활동란] 자격 및 학위취득
368 - 368 [회원활동란] 89년도 신입회원(3/4 분기)
369 - 373 과학기술계 동정
374 - 378 [학회소식]
379 - 381 [학회소식] 제3회 한ㆍ일분체공학세미나를 마치고
최우식
381 - 381 지부소식
382 - 385 [학회소식] 정년퇴임 기념강연 -기술도입의 한계점과 기초과학육성의 본뜻
이재성
386 - 388 [학회소식] 이재성 교수 정년퇴임
389 - 393 [알림]
394 - 398 "화학공학" 게재 논문 요약
399 - 399 The Korean Journal of Chemical Engineering 게재 논문 요약