| 213 - 217 |
저에너지의 Ar 중성빔을 이용한 Silicon의 Atomic Layer Etching
Atomic Layer Etching of Silicon Using a Ar Neutral Beam of Low Energy
오창권, 박상덕, 염근영 |
| 218 - 224 |
RF 스퍼터링으로 증착된 하이드록시아파타이트 박막의 열처리 특성
The Heat Treatment Characteristics of Hydroxyapatite Thin Films Deposited by RF Sputtering
정찬회, 이준희, 신윤학, 김명한, 최석환, 김승언 |
| 225 - 230 |
PECVD를 이용한 금속 스탬프용 점착방지막 형성과 특성 평가
Fabrication and Characterization of an Antistiction Layer by PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) for Metal Stamps
차남구, 박창화, 조민수, 김규채, 박진구, 정준호, 이응숙 |
| 231 - 234 |
새로운 정공차폐 층 (Hole blocking layer)으로 DCJTB 도핑된 24MeSAlq를 이용한 백색유기발광다이오드
White Organic Light-Emitting Diodes Using DCJTB-Doped 24MeSAlq as a New Hole-Blocking Layer
김미숙, 임종태, 염근영 |
| 235 - 240 |
플라스마 디스플레이 패널의 격벽용 BaO-B 2 O 3 -ZnO-P 2 O 5 계의 HNO 3 를 이용한 에칭 특성
HNO 3 Etching Properties of BaO-B 2 O 3 -ZnO-P 2 O 5 System of Barrier Ribs in PDP
전재삼, 김재명, 김남석, 김형순 |
| 241 - 247 |
L1 2 형 금속간화합물 Ni 3 Al중에 탄화물입자의 석출거동에 관한 연구
A Study on the Precipitation Behavior of Carbide Particle in L1 2 -type Intermetallic Compound Ni 3 Al
한창석, 구경완, 오동철 |
| 248 - 252 |
ZnS:Cu,Cl 형광체의 특성에 미치는 원자층 증착 초박막 HfO 2 의 영향
Effect of Ultrathin Film HfO 2 by Atomic Layer Deposition on the Propreties of ZnS:Cu,Cl Phosphors
김민완, 한상도, 김형수, 김혁종, 김휴석, 김석환, 이상우, 최병호 |
| 253 - 256 |
GDI 호스트-도펀트 형광체를 이용한 청색 OLED의 제작과 특성 평가
Fabrication and Characterization of Blue OLED using GDI Host-Dopant Phosphors
장지근, 신세진, 강의정, 김희원, 장호정, 오명환, 김영섭, 이준영, 공명선, 이영 |
| 257 - 263 |
TFT-LCDs에 적용 가능한 Cu-Ag 박막에 대한 Mo 기판 위에서의 특성조사
Characteristic of Cu-Ag Added Thin Film on Molybdenum Substrate for an Advanced Metallization Process
이현민, 이재갑 |
| 264 - 271 |
RF 스퍼터링으로 증착된 하이드록시아파타이트 박막의 ESCA 분석
The ESCA Analysis of Hydroxyapatite Thin Films Deposited by RF Sputtering
정찬회, 이준희, 김순국, 김명한, 유재근, 김승언 |
| 272 - 275 |
PMMA를 결합제로 한 수산화아파타이트 성형체의 제조
Fabrication of Hydroxyapatite Compacts with Polymethyl Methacrylate
류수착, 윤수종 |
