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Korean Journal of Materials Research

Korean Journal of Materials Research, Vol.19, No.2, February, 2009 Entire volume, number list
ISSN: 1225-0562 (Print) 

In this Issue (12 articles)

55 - 60 HDH공정에 의한 티타늄 분말제조 및 소결특성
Sintering Characterization of Ti Powder Prepared by HDH Process.

최정철, 장세훈, 차용훈, 오익현
61 - 67 무전해 도금법으로 제조된 Co(Re,P) capping layer제조 및 특성 평가
Synthesis and Characterization of The Electrolessly Deposited Co(Re,P) Film for Cu Capping Layer

한원규, 김소진, 주정운, 조진기, 김재홍, 염승진, 곽노정, 김진웅, 강성군
68 - 72 저진공 축전결합형 SF6, SF6/O2, SF6/CH4 플라즈마를 이용한 아크릴의 반응성 건식 식각
Capacitively Coupled SF6, SF6/O2, SF6/CH4 Plasma Etching of Acrylic at Low Vacuum Pressure

박연현, 주영우, 김재권, 노호섭, 이제원
73 - 78 리튬 이차전지에서 Si 음극박막의 스퍼터링 증착조건에 따르는 구조적, 전기화학적 특성 연구
Influence of Sputtering Conditions on Structural and Electrochemical Properties of the Si Anode Film for Lithium Secondary Batteries

주승현, 이성래, 조병원, 조원일
79 - 84 비정질 합금의 소성에 미치는 조성분리 원소의 역할 : 실험 및 전산모사 연구
Role of A phase Separating Element on the Plasticity of Amorphous Alloys : Experiment and Atomic Simulation Study

박경원, 이창면, 사인영, 이병주, 이재철
85 - 89 Hydroxyapatite-Zirconia Composite Thin Films Showing Improved Mechanical Properties and Bioactivity
Kim MS, Ryu JJ, Sung YM
90 - 94 CH4 농도 변화가 저유전 SiOC(-H) 박막의 유전특성에 미치는 효과
Effect of CH4 Concentration on the Dielectric Properties of SiOC(-H) Film Deposited by PECVD

신동희, 김종훈, 임대순, 김찬배
95 - 101 화력발전소 바닥재로 제조된 결정화 유리의 미세구조
Microstructure of Glass-ceramics Made from Bottom Ash Produced at a Thermal Power Plant

강승구
102 - 107 RF 스퍼터를 이용하여 제작된 a-Si:H 박막의 어닐링 효과에 관한 연구
Effect of Annealing on a-Si:H Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering

김도윤, 김인수, 최세영
108 - 110 Effect of Annealing Temperature on the Properties of ITO/Au/ITO Films
Chae JH, Kim D
111 - 114 Effect of REM Addition on The Surface Tension and The Critical Temperature of The Immiscible Liquid Phase Separation of The 60%Bi-24%Cu-16%Sn alloy
Park J, Min S, Lee J
115 - 118 Wetting Behavior of Dolomite Substrate by Liquid Fe-19%Cr-10%Ni Alloy at 1753K
Shin M, Lee J, Park JH