검색결과 : 2건
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HF-산화제-H2O 수용액에서 Si 식각반응의 속도론적 연구 서영훈, 김선중, 김광철, 오재완, 남기석, 김기주, 이형재 HWAHAK KONGHAK, 35(4), 504, 1997 |
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MECHANISM OF SILICON ETCHING IN HF-KMnO4-H2O SOLUTION Nahm KS, Seo YH Korean Journal of Chemical Engineering, 12(2), 162, 1995 |