검색결과 : 1건
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고밀도 CHF3 플라즈마에서 바이어스 전압과 이온의 입사각이 Photoresist의 식각에 미치는 영향 강세구, 민재호, 이진관, 문상흡 Korean Chemical Engineering Research, 44(5), 498, 2006 |
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고밀도 CHF3 플라즈마에서 바이어스 전압과 이온의 입사각이 Photoresist의 식각에 미치는 영향 강세구, 민재호, 이진관, 문상흡 Korean Chemical Engineering Research, 44(5), 498, 2006 |