- 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
- 국제 특허분류 : G03F-007/42, C11D-001/00, C11D-011/00, G03F-007/16, G03F-007/20, G03F-007/26
- 출원번호/일자 : 10-2019-0118885 (2019/09/26)
- 공개번호/일자 : (1970/01/01)
- 출원인 : 영창케미칼 주식회사
- 본원 발명은 포토레지스트 패턴 공정에 있어서 포토레지스트 표면의 물에 대한 접촉각이 75° 이상의 소수성을 가지는 포토레지스트 패턴의 리프팅 결함 개선용 공정액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 불소계 계면활성제 0.00001 내지 0.1중량%; 트리올 유도체, 테트라올 유도체 또는 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 물질 0.00001 내지 1.0중량%; 및 잔량의 물;로 이루어지고 표면장력 45mN/m 이하, 접촉각 65° 이하인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 패턴의 리프팅 결함 개선용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성방법에 관한 것이다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
