| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2006년 봄 (05/12 ~ 05/13, 전북대학교) |
| 권호 | 10권 1호 |
| 발표분야 | 화학공정 |
| 제목 | RF Plasma Cleaning System을 이용한 광학렌즈 세정에 미치는 CF4 및 N2 Gas 영향에 관한 연구 |
| 초록 | 본 연구에서 이용한 광학용 유리 렌즈는 안경, 현미경, 디지털 카메라, 측정 장비 등에 광범위하게 사용되는 제품으로써 그 사이즈는 Φ8.5 ∼ Φ45 mm로 다양한 크기를 가지고 있다. Plasma Cleaning System에 Loading할 때는 양산업체에서 습식세정에 사용하는 Jig를 이용했고 Gas는 CF4, N2, Ar, O2를 사용했으며 그 효과를 확인하기 위해서 Plasma 세정에 이용되는 Gas들의 조합과 처리시간, gas flow rate등에 변화를 주었으며 Glass lens의 가공과정에서 발생하는 유기물과 기타 이물질을 제거하는데 그 초점을 두었고, 우선 Plasma cleaning을 통한 세정효과와 전처리 조건, Gas flow rate, RF power, Plasma 처리 시간 등이 세정에 미치는 효과를 고찰하였다. |
| 저자 | 홍주형, 김상식, 신중욱 |
| 소속 | 고등기술(연) |
| 키워드 | RF plasma; Optical lens; Surface cleaning |
