| 초록 |
본 연구에서는 실리카 나노 입자를 dipodal 형태의 bis[3-(trimethoxysilyl)propyl]- amine(BTMA) 실란 커플링제로 실리카 표면을 개질한 후, glycidyl methacrylate(GMA)로 표면 처리를 하여 실리카에 결합된 BTMA의 N-H기와 GMA의 epoxide기가 결합하여 자유 라디칼 중합이 가능한 methacrylate기를 도입하는 연구를 수행하였다. GMA를 이용한 개질반응의 시간, 온도 및 농도의 변화가 BTMA의 N-H기와 GMA의 epoxide기의 결합 반응에 미치는 영향을 Fourier transform infrared spectroscopy(FTIR), elemental analysis(EA), Thermogravimetric Analyzer(TGA)및 nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR)법을 사용하여 정량적으로 분석하였다. BTMA로 개질된 실리카를 GMA로 처리하면 실리카입자에 결합되어 있는 BTMA의 N-H기에 GMA의 epoxide기가 열리면서 반응이 일어나 methacrylate기가 도입되는 것을 알 수 있었다. 또한, GMA의 반응시간, 온도 및 농도가 증가 할수록 methacrylate기가 더 많이 도입됨도 확인 할 수 있었다. |
