| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2014년 봄 (04/30 ~ 05/02, 제주국제컨벤션센터) |
| 권호 | 18권 1호 |
| 발표분야 | 포스터-환경.에너지 |
| 제목 | HF-free laser texturing of polycrystalline Si wafer for photo voltaic cells |
| 초록 | Multi c-Si Wafer에서 texturing을 통한 표면처리 공정의 목적은, 표면적 증가를 통한 발전 면적 향상, 반사율 저감을 통한 발전 효율 향상, 표면 반사광의 재 입사를 통한 재활용, Saw-Damage 제거 및 절연막 형성 등을 들 수 있다. 그러나 기존의 기술은 HF:HNO3와 같은 유독성 화학 약품의 대량 사용과 고가의 SF6기반 RIE-etching 장비가 대량으로 소요되어 환경문제와 제조비가 높아지는 문제를 가지고 있다. 본 연구에서는 Laser를 에너지로 사용하고 fly-eye lens array 등의 광학기술을 활용해서 불산을 사용하지 않고 매우 빠른 속도로 처리가 가능한 texturing 기술을 연구하였다. 특히 레이저를 이용한 texturing은 대기압과 상온 상태의 가공을 기반으로 하는 장점을 가지고 있다. 본 연구에서는 레이저의 에너지, 스캔 속도 등에 따라 형성된 표면의 물성, 반사효율을 측정하여 조업조건을 파악하였다. |
| 저자 | 하승현, 박상준, 유인상, 김지현 |
| 소속 | 가천대 |
| 키워드 | Hf-free; polycrystalline; Si-wafer; photo voltaic cells |
