| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2016년 가을 (10/26 ~ 10/28, 제주국제컨벤션센터(ICCJEJU)) |
| 권호 | 20권 2호 |
| 발표분야 | 나노_포스터 |
| 제목 | 나노다이아몬드의 화학적 정제 및 나노다이아몬드 순도제어 |
| 초록 | 나노다이아몬드(ND Nanodiamond)는 크기가 3~10nm정도의 높은 현존하는 물질중 최상급 경도를 가지고 있으며, 특유의 열전달력, 내마모성, 투과성, 절연성, 화학적 안정성 등의 특성을 가지고있다. 나노다이아몬드를 제조하는 방법으로 폭발법(detonation), 레이저 박리법 (laser ablation), 고온고압법(HTHP)이 상용화되어 있으나, 그 중 폭발법이 가장 상업성이 뛰어나며, 비군사화 된 폐화약류를 이용한 나노다이아몬드 생산이 이루어지고 다. 나노다이아몬드는 국내외에서 반도체 웨이퍼 연마제, 윤활유 첨가제, 도금 첨가제, 화장품 등 다양한 산업의 원재료로 잠재시장을 보유하고 있으나 고비용의 나노다이아몬드 정제 공정으로 산업적 응용이 제한되고 있다. 본 연구에서는 HClO4 및 H2SO4/KMnO4기반의 정제공정 및 나노다이아몬드 순도 제어 방법을 설명하자 한다. |
| 저자 | 이승환1, 홍승표1, 하상욱2 |
| 소속 | 1국가핵융합(연), 2(주) 호정 |
| 키워드 | 나노다이아몬드; 화학적 정제; 순도 제어 |
