| 학회 |
한국고분자학회 |
| 학술대회 |
2009년 가을 (10/08 ~ 10/09, 광주과학기술원 오룡관) |
| 권호 |
34권 2호 |
| 발표분야 |
방사광을 이용한 고분자 나노소재 연구 |
| 제목 |
Directed Block Copolymer Assembly for Nanolithography via Soft-Graphoepitaxy |
| 초록 |
최근 스스로 5~50 nm크기의 규칙적인 나노구조를 병렬식으로 형성하는 블록공중합체는 차세대 나노 패턴 제작 기술로 많은 관심을 받고 있다. 하지만 블록공중합체 나노구조에는 많은 결함이 존재하므로 나노 패턴 제작 기술로 사용하기 위해서 그 구조를 제어하는 기술이 요구 된다. 블록공중합체의 나노구조를 제어하는 대표적인 기술이 요철 또는 화학적인 표면 패턴을 이용하는 것이다. 하지만 위의 두 방법은 근본적인 한계를 가지고 있어, 실제 공정에 적용을 위해 새로운 방법이 필요로 한다. 본 연구는 소프트 그라포에피택시라는 새로운 방법을 제안한다. 소프트 그라포에피택시는 마이크로 리소그라피 방법을 이용하여 제작한 유기물 PR패턴을 요철로 사용하여 블록공중합체의 나노구조를 제어하는 방법이다. 본 연구에서는 소프트그라포에피택시에서 블록공중합체의 박막 두께, 분자량, 분율과 PR의 넓이 및 모양에 따라 블록공중합체의 나노구조가 다양하게 제어 가능함을 보여주고, 제작된 블록공중합체 나노구조와 식각 및 증착 기술을 통해 실리콘 나노선과 알루미늄 나노선의 제작 가능함을 보여준다. |
| 저자 |
김주영1, 정성준2, 김지은2, 문형석2, 김봉훈2, 신동옥2, 이진아2, 김상욱2
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| 소속 |
1KAIST, 2카이스트 |
| 키워드 |
block copolymer; graphoepitaxy; Nanolithography; Photoresisit
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| E-Mail |
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