| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2010년 봄 (05/13 ~ 05/14, 삼척 팰리스 호텔) |
| 권호 |
16권 1호 |
| 발표분야 |
H. Advanced Coating Techniques(첨단 코팅 기술) |
| 제목 |
난성형 Cu-Ga 및 Cu-In계 스퍼터링 타겟재의 고밀화 및 특성평가 |
| 초록 |
최근 IT/ET 소자는 고집적화/고성능화가 진행됨에 따라 박막형성용 타겟 또한 고성능화가 요구되고 있으며, 타겟의 성능을 좌우하는 요소로는 높은 순도, 입자분포에서의 작은 입자사이즈와 간격, 높은 밀도, 균질한 구조와 조성, 높은 기계적 특성 등을 들 수 있다. 따라서 스퍼터링 공정을 이용한 박막 제조시 박막 효율 및 공정 안정성이 최우선시 됨으로써 스퍼터링 타겟의 고신뢰성이 요구된다. 특히 태양전지용 광전흡수변환용 스퍼터링 타겟 소재로 사용되고 있는 Cu-Ga및 Cu-I의 경우 금속간화합물의 형성에 의해 고밀도화 및 성형이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 본 연구에서는 난성형 소재인 Cu-Ga 및 Cu-In소재의 고밀도 및 미세결정립을 가지는 고품질의 스퍼터링 타겟 제조를 위해 고온 압축 및 압연을 수행하였다. 또한, 본 연구에서는 취성이 있는 Cu-Ga및 Cu-In소재의 고밀도 스퍼터링 타겟 제조를 위해 Canning 압축 및 압연 공정을 접목하여 타겟을 제조하였다. 제조된 Cu-Ga 및 Cu-In 타겟재의 밀도, 미세조직 및 EBSD 등 특성분석을 통하여 최적 고밀도화 공정 조건을 도출하였다. |
| 저자 |
손현택1, 김대근1, 박슬기1, 김대원1, 최광보2
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| 소속 |
1한국생산기술(연), 2(주)창성 |
| 키워드 |
Cu-Ga; Cu-In; 스퍼터링 타겟; 소성가공; 압연
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| E-Mail |
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