| 초록 |
본 연구에서는 새로 개발된 저온 습식 합성법을 이용하여 초미세 나노 크기의 잉크젯 프린팅 잉크용 산화 인듐 주석 (ITO) 나노입자를 성공적으로 제조하였다. 저온 습식 합성법이란 기존 공정에서 사용되는 염소, 질산 등의 유해물질을 배제함으로써 기존의 700 oC 보다 훨씬 낮은 300 oC에서 행하는 공정이고, 이로써 미세하고 균일한 초미세 ITO 나노입자를 제조할 수 있었다. 제조된 ITO 나노입자의 평균 입도는 5 nm 이고 입도 분포도 10% 미만으로 매우 균일하다. 또한 ITO 나노입자의 비표면적은 110 m2/g 이상으로 이는 입도가 미세함을 뒷받침한다. 300 oC의 저온공정에도 불구하고 (222) 우선 방위를 가진 입방정의 ITO 결정상이 형성되었고, ITO의 조성비는 In과 Sn이 90과 10으로 설계된 조성비와 일치하였다. 특히, ITO 나노입자 제조시 첨가제를 이용하여 입자의 뭉침을 방지하였고, 이를 이용하여 용매 내에 ITO 입자를 균일하게 분산시킴으로써 잉크젯 프린팅용 ITO 잉크를 성공적으로 제조할 수 있었다. |
