| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 봄 (04/23 ~ 04/24, 성균관대학교) |
| 권호 | 5권 1호, p.393 |
| 발표분야 | 공정시스템 |
| 제목 | 정적모사를 통한 IGCC PDU 플랜트의 공정연구 |
| 초록 | 본 연구는 IGCC PDU(Process Development Unit) 플랜트에 대한 씨스템을 구성하고 이에 따른 공정 평가/분석 연구를 통해 PDU 공정 및 계통에 대한 특성을 파악하였다. 가스화기는 산소공급형 가압분류층 건식가스화기를 채택하였고, 가스화기의 석탄처리용량은 100톤/일이며, Datong탄을 기준탄으로 하였다. 가스화기의 운전압력은 28기압, 운전온도는1520℃로 하여 전산해석을 하였으며, PDU 플랜트의 적정단위에 대한 용량을 예측하였다. |
| 저자 | 이승종, 이진욱, 윤용승 |
| 소속 | 고등기술(연) |
| 키워드 | IGCC; PDU; Gasification; ASU integration |
| 원문파일 | 초록 보기 |
