| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2007년 봄 (05/11 ~ 05/12, 계명대학교) |
| 권호 | 11권 1호 |
| 발표분야 | 나노기술 |
| 제목 | 미세패턴 가공기술을 위한 표면처리 기법 |
| 초록 | 감광기술(Photolithography)의 대안기술로서 100 nm이하의 나노 구조를 구현할 수 있는 새로운 경제성 있는 미세패턴 가공기술이 활발하게 제안되고 있다. 본 연구팀은 이러한 대안공정 중 고분자 물질을 이용한 Soft mold를 이용한 imprint Lithography에 관하여 소개하고자 한다. Imprint Lithography는 하나의 구조를 원판으로 하여 다수의 복제판을 만들 수 있는 공정으로서, 이러한 공정 개발에 있어서 중요하게 고려되어야 할 표면처리 기법부분과 이러한 대안공정을 응용한 반사방지 및 오염방지 용 코팅공정, LCD rubbing 대안공정, 바이오 칩 구조 성형공정 등 다양한 적용에 관하여 소개하고자 한다. |
| 저자 | 김연상1, 이내윤2 |
| 소속 | 1이화여자대, 2경원대 |
| 키워드 | nanoimprint lithography; soft lithography; surface chemistry; nano-patterning |
