| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2006년 봄 (05/19 ~ 05/20, 경상대학교 ) |
| 권호 | 12권 1호 |
| 발표분야 | 에너지환경재료 |
| 제목 | YBCO 초전도선재 제조를 위해 Ni 기판의 표면 산화열처리로 형성된 NiO 완충층에 대한 특성 분석 |
| 초록 | YBCO CC(Coated Conductor)의 완충층으로 응용하기 위하여 2축 배향된 Ni 계열 기판 표면을 산화시킨 NiO의 epitaxial 성장에 대한 특성을 분석하였다. 기존의 NiO/Ni를 형성하기 위한 SOE(self oxidation epitaxy)법은 in-plane의 결정성과 재현성에 문제점을 나타내었고 산화 처리 온도도 1000℃ 이상의 고온에서 이루어졌다. 본 연구는 선형초점 적외선 가열로를 이용하여 보다 낮은 온도에서 Ni 표면을 산화시켜 in-plane 결정성을 향상시키고자 하였다. 집합 조직화된 Ni과 Ni-5wt%W 기판을 적외선 가열로에서 700~800℃, 6~120mm/hr의 이동속도로 대기 중에서 산화 열처리하였다. NiO/Ni의 집합조직은 GADDS(general area detector diffraction system)를 이용하여 in-plane과 out-of-plane의 반가폭 값을 분석하였다. Ni 기판의 in-plane 반가폭 값이 9.93°인 반면에 NiO 층은 9.34°로 결정 배향성이 향상됨을 나타내었다. NiO층의 표면조직과 NiO/Ni의 횡단면을 FE-SEM(Field Emission-Scanning Electron Microscope)으로 관찰한 결과 NiO의 입자 크기는 100nm 내외였으며, 그 층의 두께는 약 300~450nm 정도였다. 향후의 연구는 NiO 완충층을 단일층으로 이용하여 YBCO를 증착하여 초전도 특성 평가를 수행할 것이다. |
| 저자 | 탁진성1, 정준기2, 김원정2, 김철진1 |
| 소속 | 1경상대, 2창원대 |
| 키워드 | YBCO CC; 선형 초점 적외선 가열로; SOE(self oxidation epitaxy) |
