| 학회 | 한국고분자학회 |
| 학술대회 | 2019년 봄 (04/10 ~ 04/12, 부산컨벤션센터(BEXCO)) |
| 권호 | 44권 1호 |
| 발표분야 | 기능성 고분자 |
| 제목 | Highly soluble fluorous alkyl ether-tagged imaging materials for the photo-patterning of organic light-emitting devices |
| 초록 | Organic light-emitting diode(OLED) pixel의 Orthogonal lithography방법으로 불소계 용제에 고용해도를 갖는 imaging material이 필요하게 되었다. 이전에 보고된 Photoresist인 acid-cleavable resorcinarene에 perfluoroether chains을 부착하고 광산발생제로 사용하는 naphthalimide backbone에 semi-perfluoroalkoxy를 첨가해 Photoresist와 광산발생제 모두 불소계 용제에 대해 용해도가 향상된 것을 확인하였다. 정공수송층(4,4',4"-tris(N-carbazolyl)triphenylamine (TCTA)) 위에 해당물질을 필름제작 하였을 때 OLED소자가 현상액에 대해 거의 손상 없이 우수한 photoimaging을 보였고 이를 OLED에 도입했을 때 pixel의 크기를 50 ㎛까지 확보하였다. |
| 저자 | 박근우, 이진균 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | 고불소계; 포토레지스트; patterning |
