| 학회 |
한국공업화학회 |
| 학술대회 |
2008년 가을 (11/12 ~ 11/14, ICC 제주) |
| 권호 |
12권 2호 |
| 발표분야 |
무기재료 |
| 제목 |
반도체기판 상에 ZnO nano-rod의 패턴성장을 위한 저온 ZnO 박막 성장기술 |
| 초록 |
본 연구에서는 실리콘기판을 기반으로 ZnO nano-rod의 패턴성장을 위하여 ZnO nano-rod의 에피성장에 요구되는 ZnO 버퍼층을 간단한 저온 습식방법으로 패턴을 제작하였다. ZnO nano-rod의 버퍼층으로 이용되는 ZnO 박막을 성장시키기 위하여 CBD법에서 개량된 CFR(Continuous Flow Reactor) process가 이용되었으며, ZnO 박막패턴을 위하여 간단한 테이핑 기법이 이용되었다. ZnO 박막은 CFR process에서 이용된 전구체 용액과 나노결정의 핵생성을 위한 시약의 농도 및 반응시간을 변화시켜 90-100 nm의 두께로 성장되었다. 이와 같이 실리콘 기판상에 특정한 패턴으로 성장된 ZnO 박막을 seed로 하여 고온열증착법에 의해서 ZnO nano-rod를 성장시켰다. SEM으로 기판을 관찰한 결과, ZnO nano-rod가 적당한 패턴을 유지하면서 성장된 것이 확인되었다. 즉 저온 용액법으로 seed의 패턴을 설계함으로써 ZnO nano-rod의 에피성장과 더불어 기판 상에 패턴을 세길 수 있음을 확인하였다. |
| 저자 |
이선이1, 이태진1, 박노국1, 한기보1, 윤석훈1, 이원근2, 배영제2
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| 소속 |
1영남대, 2TPS |
| 키워드 |
Continuous Flow Reactor; 패턴성장; ZnO nano-rod
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| E-Mail |
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