| 학회 |
한국재료학회 |
| 학술대회 |
2015년 봄 (05/14 ~ 05/15, 구미코) |
| 권호 |
21권 1호 |
| 발표분야 |
G. 나노/박막 재료 |
| 제목 |
Sulfur containing 플라즈마를 이용한 Block copolymer (BCP) 표면처리에 관한 연구 |
| 초록 |
Block copolymer (BCP) lithography 는 저비용, 공정 용이성 등의 장점을 바탕으로 EUV (Extreme Ultraviolet) lithography 기술과 함께 차세대 리소그래피 기술로써 많은 연구가 이루어지고 있다. 그러나 BCP template 을 이용한 pattern transfer 공정에서 확인되어지는 열적 안정성 및 template 의 변형문제는 앞으로 해결해야 할 중요한 문제로 대두되고 있다. 본 연구에서는 Magnetically enhanced inductively coupled plasma (MEICP) 장비를 통한 sulfur containing 플라즈마를 이용하여 BCP template 를 표면처리 후 annealing 및 etching test를 통하여 열적/물리적 특성변화를 확인하였다. 기존 Polystyrene-block-poly(methyl methacrylate) (PS-b-PMMA) 를 이용하여 제작한 hole pattern 형태의 PS template 은 190℃에서 15분 동안 annealing test 를 하였을 경우 낮은 열적 안정성으로 인해 template 이 붕괴되었다. 그러나 template 를 SF6, H2S 와 같은 sulfur containing 플라즈마를 이용한 표면처리 이후에는 annealing test 에도 열에 의한 변형이 없음을 확인할 수 있었다. 또한 표면처리를 한 BCP template 는 열적 안정성 향상 이외에도 표면처리 이전보다 식각 선택도 및 화학적 안정성의 향상을 확인 할 수 있었다. 본 연구에서는 Field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) 을 이용하여 annealing 및 식각에 따른 template 의 변형 여부를 확인하였고, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) 를 이용하여 표면처리한 template 의 화학적인 분자결합 구조를 분석하였다. |
| 저자 |
신재희1, 오종식1, 오지수1, 성다인1, 염근영2
|
| 소속 |
1성균관대, 2성균나노과학기술원 |
| 키워드 |
Block copolmyer; Plasma treatment; Sulfonation
|
| E-Mail |
|
