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A study on the effect of reactive gases (N2/NH3) on silicon nitride thin films deposited with diiodosilane (SiH2I2) precursors
이백주
한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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N2/He Plasma Inhibitor 개발을 통한 공간 분할 PE-ALD시스템에서의 메모리 Gap-fill공정 설계
이백주, 서동원, 황재순, 최재욱
한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
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A Study on the Characteristics of Low Temperature Si3N4 Thin Films Deposited in a Space Divided PEALD System
이백주, 서동원, 황재순, 최재욱
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Very High Frequency Plasma - Enhanced 원자층 증착법을 통한 순수 코발트 박막 특성 연구
송창훈, 염원균, 이수정, 탁현우, 변지영, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
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VHF 플라즈마 소스를 이용한 PE-ALD 유전층 증착 공정 및 플라즈마에 의한 데미지 개선
오일권, 김태형, 염근영, 김강식, 이종훈, 이한보람, 김형준
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Multifunctional Ru-AlN Heating Resistor Films for High Efficiency Inkjet Printhead
Woo-Jae Lee, Seung-Il Jang, Zhixin Wan, Seung-Yong Shin, Kyung-Il Moon, Jung-Dae Kwon, Se-Hun Kwon
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
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원자층 증착법을 이용한 고 단차 Co 박막 증착 및 실리사이드 공정 연구
송정규, 박주상, 이한보람, 윤재홍, 김형준
한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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N2/H2 plasma를 이용한 Co 원자층 증착 공정 및 물성
윤재홍, 김도영, 김형준
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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Low Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Cobalt
김재민, 김형준
한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
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Electrical Properties of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition HfO2/HfOxNy/HfO2 Gate Oxide
맹완주, 김형준
한국재료학회 2008년 가을 학술대회 |
