화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 Characteristics of Kerfless Si wafer using stress induced metal layer
김경민, 장효식, 차함초롬
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
3 Thin Single Crystal Si Wafers for Next Generation Photovoltaics
오지훈
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
2 Exfoliated sub 5 µm thick silicon foil by controlled exfoliation process
이용환, 오지훈
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
1 Unprecedented Method of Epitaxy Silicon Growth at 200 °C using Very High Frequency Plasma Enhanced Vapor Phase Epitaxy
김가현, 홍지은, 김남우, 윤현, 조임현, 서관용, 김동석
한국공업화학회 2016년 가을 학술대회