| 번호 | 제목 |
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Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited La2O3 Capped HKMG Devices 임동환, 정우석, 최창환 한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
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Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON 의 특성|Characterization of HfSiON as gate dielectrics fabricated by solid phase reaction 고한경, 이태호, 김철성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
