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Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography
Yeo Kyung Kang, 김명길
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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높은 내식각성을 갖는 EUV lithography(EUVL)용 고불소화 주석산화물 레지스트의 합성 및 리소그래피 특성 평가
안형주, 우지훈, 구예진, 이진균
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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Metal Chalcogenide based- Photoresists with Chemical Amplified Ligand
전승주, 김예진, 황도훈, 김명길, 임보규
한국고분자학회 2022년 봄 학술대회 |
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불소화 고분자 소재 기반 극자외선 레지스트 개발
이진균, 오현택, 구예진, 김강현, 이상설
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Molecular materials Containing a Large amount of Iodine as a Sensitizer to Improve the Performance of Extreme UV Resist
박한빛, 이진균, 구예진
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Lithography of perfluoro-molecular Resists with high Tg under EUV Radiation
우지훈, 이진균
한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Research of Inorganic Extreme Ultraviolet Photoresists Based on Silver Ethyl Xanthate
지형준, 김수찬, 양경민, 유지범, 이영관
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Synthesis of of Fluorinated Alternating Copolymer and Photolithographic Characterization under High energy Electron-beam and EUV radiation
구예진, 이진균
한국고분자학회 2020년 봄 학술대회 |
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반도체 공정 미세화에 따른 Patterning 소재 개발 동향
김명수
한국공업화학회 2020년 봄 학술대회 |
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일본 수출규제 대응을 위한 포토레지스트 특허 전략 수립
이병화
한국공업화학회 2020년 봄 학술대회 |
