화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Inductive coupled plasma reactive ion etching characteristics of Ta thin films for hard mask applications
최지현, 아드리안, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
2 High density plasma reactive ion etching of Co2MnSi thin films using a CH3OH/Ar gas mixture for magnetic random access memory applications
아드리안, 최지현, 황수민, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회
1 Comparison of etch characteristics of Ru thin films using CH3OH/Ar and CH4/O2/Ar plasmas
황수민, 아드리안, 최지현, 정지원
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회