화학공학소재연구정보센터
번호 제목
3 Etching of SiO2 in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol
선은재, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
2 Angular dependence of SiO2 etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas
선은재, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
1 Effect of mixing ratio in SiO2 etching using hydrofluoroether plasmas
선은재, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회