화학공학소재연구정보센터
번호 제목
43 Analysis of two-phase transport in gas diffusion double layer of proton exchange membrane fuel cell
천 국, 박기태, 정운호, 이향미, 최동웅, 박선희, 김성현
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
42 Ru CMP(chemical mechanical planarization) 에서 pH 변화가 Ru의 연마거동에 미치는 영향
조병권, 김인권, 권태영, 강봉균, 박진구, 박형순
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
41 CMP conditioner의 diamond 크기, 배열, 형상 변화가 pad conditioning 공정에 미치는 영향
강봉균, 강영재, 김규채, 박진구, 이주한, 안정수, 조병권
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
40 Studies on Phtocatalysis Technique for the Treatment of NBD-Wastewater in Paper mill
강광호, 김형진
한국공업화학회 2007년 봄 학술대회
39 Chemical Mechanical Polishing and Electrochemical Characterization of Tungsten by Using Mixed Oxidizers
허철준, 전석진, 소재현, 양승만
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회
38 Effects of Organic Additives in Ceria Slurry on Enhanced Oxide-to-Nitride Removal Selectivity in Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Byeong-Seog LEE, Hyun-Goo KANG, Kyung-Woong PARK, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK
한국재료학회 2006년 가을 학술대회
37 Effect of Alkaline Agent in Colloidal-Silica Slurry on Polysilicon Chemical-Mechanical Polishing Process.
Keum-Seok PARK, Myoung-Yoon LEE, Hyung-Soon PARK, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK
한국재료학회 2006년 가을 학술대회
36 Cu ECMP 공정에서 전해질 특성평가 및 첨가제 영향
권태영, 김인권, 박진구
한국재료학회 2006년 가을 학술대회
35 Removal of Chromium using Chemically-treated Alginate Beads
정재훈, 김승재, 정태광, 김태영, 조성용
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회
34 Reduction of Large Particles and Light Point Defects (LPD) by Aging and Selective Sedimentation Process in Ceria Slurry for Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing
Byong-Seog Lee, Hyun-Goo Kang, Kyung-Woong Park, Ungyu Paik, Jea-Gun Park
한국재료학회 2006년 봄 학술대회