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Characteristics of dye-sensitized solar cells using heat treated multi-walled CNT counter electrode
문준희, 황숙현, 이수경, 김금채, 김도현, 이동윤, 전민현
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Comparative study between optical and structural properties of annealed Mg- doped GaAs epilayers
김종호, 박호진, 김군식, 김도엽, 송민경, 신창미, 조관식, 류혁현, 전민현, 임재영, 김종수, 김진수, 이동율, 손정식
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
| 7 |
Al Atom Migration in LaAlO3 Thin Film during Thermal Treatment
엄다일, 황철성, 김형준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
| 6 |
Study on Ion Activation of Ion-implanted Polycrystalline Si Thin Films Using Rapid Thermal Annealing
이종원, 소병수, 배승묵, 김영환, 황진하, 김영철
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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A research of properties of p-GaN layers after rapid thermal annealing (RTA) treatment
Jihye Kim, Jaehong Choi, Donggun Lee, Junggeun Jhin, Dongjin Byun
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Effects of Amorphous-silicon and Poly-silicon films on Within-Wafer Non-Uniformity (WIWNU) Improvement in Chemical Mechanical Polishing.
Yoon-Kweon Choi, Jae-Il Choi, Kyung-Woong PARK, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure
최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Interfacial properties of ultra thin HfxSi1-xO2 films grown by ALCVD using Hf(N(C2H5)2)4 and Si(OC4H9)4 for CMOS application
김재현, 용기중
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Atomic Layer Chemical Vapor Deposition and Characterization of Hafnium Silicate Films
김재현, 용기중
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
