화학공학소재연구정보센터
번호 제목
31 Preparation of Cu thin films By Remote Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using Copper(Ⅱ) dimethylamino-2-propoxide
윤동준, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
30 Depth profiling of copper deposited by electroless plating
김영순, Dar Mushtaq Ahmad, 서형기, 김형일, V. P. Godbole, 신형식
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
29 Preparation of TaN thin film By H2 Plasma Assisted Atomic Layer Deposition usingTert-butylimino-tris-ethylmethylamino tantalum
김등관, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
28 Atomic layer deposition of high quality ZnO films grown on homo buffer layer : structural and optical properties
이 석, 임용환, Umar Ahmad, 김상훈, 한윤봉
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
27 Preparation of photocatalytic TiO2 thin films by atomic layer deposition using TDMAT and H2O2
로자나, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
26 45 nm 테크놀로지와 그 이후를 위한 금속계 나노 박막의 원자층 증착법|ALD of metal nanofilms for 45 nm technology and beyond
김형준
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
25 원자층 증착법으로 HfO2 박막이 코팅된 ZnS 형광체 분말의 발광 특성 향상|Improvement of Luminescent Properties of ZnS Phosphor Powder Coated HfO2 Thin Films by Atomic Layer Deposition Method
김형수, 김혁종, 김민완, 김휴석, 김석환, 이상우, 최병호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
24 MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 화학적, 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE
문태형, 최지혁, 명재민
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
23 PEALD 방법으로 증착된 La2O3 게이트 산화물 박막의 전기적 특성|Electrical properties of lanthanum oxide films deposited by Plasma Enhenced Atomic Layer Deposition
이은주, 김범용, 고명균, 박종완
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
22 Tetrakis-diethylamido hafnium, trimethyl aluminum 그리고 water을 이용한 hafnia-alumina nano laminate 박막의 원자층 화학증착
김석훈, 이시우
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회