| 번호 | 제목 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2 권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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반건식세정법에 의한 소각배가스 처리공정에서 흡수제 특성고찰|Characteristics of a sorbent on Spray Drying Absorption Process for Municipal Waste Incinerator 김병환, 박기호, 인희진, 박철휘|Byung-Hwan Kim, Gi-Ho Park, Hee-Jin In, Chul-Hwi Park 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process 권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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반건식 세정법에 의한 배연탈황 기술개발 박철휘, 박칠림, 박기호, 김병환, 경국현 한국화학공학회 1995년 봄 학술대회 |
