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RF 플라즈마를 이용한 Si wafer 유기화합물의 제거실험에 관한 연구
정미희, 최호석
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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RuO2 MOCVD를 위한 TiN막의 ECR plasma 전처리|ECR plasma pretreatment of the TiN films for RuO2 MOCVD
이종무, 김대교, 엄태종, 홍현석
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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ECR 상온화학증착법에 의해 PET 기판에 제조된 구리 박막의 표면전처리에 따른 접착력 특성|Effect of surface modification on adhesion of copper films on PET prepared by ECR-MOCVD
현진, 변동진, 이중기
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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전자사이크로트론공명플라즈마 상온화학증착에 의해 제조된 Cu/C 박막특성 (특강)|Characteristics of Cu/C films on polymer substrates prepared at room temperature by ECR-MOCVD
이중기|Joong Kee Lee
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)를 이용한 다이아몬드 박막 증착|Diamond Thin Film Deposition by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)
원종각, 김종성, 홍근조, 권상직|Jongkak Won, Jongsung Kim, Kunjo Hong, Sangjik Kwon
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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ECR 플라즈마 반응기의 2차원 전산모사|A Two Dimensional Simulation of an ECR Plasma Reactor
남상기, 신치범|S. K. Nam, C. B. Shin
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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GaAs 기판표면의 질화 및 GaN 박막 성장|Nitridation of GaAs substrate and GaN thin film growth
모영환, 심현욱, 김선중, 서영훈, 남기석|Y. H. Mo, H. W. Shim, S. J. Kim, Y. H. Seo, K. S. Nahm
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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ECR 플라즈마 반응기 내에서의 전달현상|Transport Phenomena in an ECR Plasma Reactor
허진석, 신치범, 오수기|J.S. Huh, C.B. Shin, S.G. Oh
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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실리콘의 Orientetion이 산소 플라즈마에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적 특성에 미치는 영향|Effect of Silicon Orientation on the Electrical Properties of SiO2 Using Oxygen Plasma
허정수, 전법주, 오인환*, 임태훈*, 정일현|Jung-Soo Heo, Bup-Ju Jeon, In-Hwan Oh*, Tae Hoon Lim*and Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
