번호 | 제목 |
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4 |
Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON 의 특성|Characterization of HfSiON as gate dielectrics fabricated by solid phase reaction 고한경, 이태호, 김철성, 안진호 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
3 |
고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구|Profile control of high aspect ratio silicon trench etch using SF6/O2/BHr plasma chemistry 함동은, 신수범, 안진호 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
2 |
고유전체 전극물질로서의 TaN 응용가능성 연구|Research on applicability of TaN as an electrode material for high-k dielectrics 김영순, 이태호, 안진호 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
1 |
The Dispersibility of TiO2 (HPPLTed) in Media of Low Dielectric Constant for Electrophoretic Image Display Device (EPID) Materials 권순형, 김세기, 홍완식, 안진호, 김선재 한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |