화학공학소재연구정보센터
번호 제목
4 Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON 의 특성|Characterization of HfSiON as gate dielectrics fabricated by solid phase reaction
고한경, 이태호, 김철성, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
3 고종횡비 실리콘 트랜치 건식식각 공정에 관한 연구|Profile control of high aspect ratio silicon trench etch using SF6/O2/BHr plasma chemistry
함동은, 신수범, 안진호
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
2 고유전체 전극물질로서의 TaN 응용가능성 연구|Research on applicability of TaN as an electrode material for high-k dielectrics
김영순, 이태호, 안진호
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
1 The Dispersibility of TiO2 (HPPLTed) in Media of Low Dielectric Constant for Electrophoretic Image Display Device (EPID) Materials
권순형, 김세기, 홍완식, 안진호, 김선재
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회