| 10 |
Fabrication of 3D Periodic Nanostructures by Using Reusable Colloidal Phase Masks
전태윤, 전환철, 이수연, 박성규, 심태섭, 양승만
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
| 9 |
SC-1 세정 시 표면처리에 따른 Phase Shift Mask의 Critical Dimension 변화
추혁성, 임상우
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
| 8 |
SC1 세정과 Phase Shift Mask의 CD 변화와의 관계 파악
추혁성, 임상우
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
| 7 |
Fabrication of 3D Periodic Nanostructures by Using Reusable Colloidal Phase Masks
전태윤, 전환철, 이수연, 박성규, 심태섭, 양승만
한국화학공학회 2012년 가을 학술대회 |
| 6 |
Basics and Trend of Semiconductor Lithography
Hye-Keun Oh
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 5 |
Effect of Molecular Architectureon thePhase Behavior inPS-g-PI Thin Film
이준영, 정주은, 장태현
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 4 |
Development of Viscosity Sensor using Surface Acoustic Wave
정우석, 김기범, 강형섭, 김진상, 김민호, 김성종, 홍철운
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
| 3 |
기계·화학적인 연마에서 슬러리의 특성에 따른 나노토포그래피의 영향과 numerical 시뮬레이션|Effect of Slurry Characteristics on Nanotopography Impact in Chemical Mechanical Polishing and Its Numerical Simulation
Takeo Katoh, Min-Seok Kim, Ungyu Paik, Jea-Gun Park
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
| 2 |
DUV lithography 위상 변위 마스크용 Zr, Hf Oxide의 전자 상태 및 천이 상태 연구|The electronic states and transition state of Zr and Hf oxide as a phase shift maske for DUV lithography
김성관, 김양수, 노광수, 허성민, 최성운, 손정민
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
| 1 |
포토마스크 제조 공정에서의 현상, 습식 식각 및 세정 기술 고찰
손용석, 이철중, 조준식, 정상현
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
